而且當年瑞星科技公司剛開始研發雙工件台係統的時候也是通過外交渠道邀請過霓虹國康尼株式會社的社長來華興科技集團公司這邊訪問，當時這位社長還當著何玉光等人的麵說過這麽一句話：“光刻機光學係統雖然很難，我相信你們能夠研製出來，但工件台你們恐怕是拿不下來的，因為這個係統太複雜了。”
而且康尼精機方麵也是不願意向瑞星科技公司公司提供零部件的，更願意賣整機。
後來瑞星科技公司也是靠著華興科技集團公司和楊傑的關係網得到了各種技術專利和人才資源，一邊緊盯著海外光刻機的技術動向一邊自己埋頭苦幹，一開始搞出來的光刻機確實是整體性能不怎麽樣，但是中晶微和華越電子集團和華晶都是批量購買，而瑞星科技公司公司也是直接派出技術人員守在晶圓廠隨時解決問題和收集各種數據，逐步地讓自己的產品設備改進完善。
瑞星科技公司剛開始的時候並不追求光刻機在所有方麵性能卓越，強調的是可靠穩定，一開始的時候得不到氟化氪和氟化氬這些激光光源就用技術已經非常成熟的汞燈光源設備結合浸入式光刻技術開始起步。
當年瑞星科技公司公司全力攻克的是沉浸式光刻機的浸液係統，並在這個係統上麵掌握了大量的技術專利，這個也成了瑞星科技公司殺手鐧一般的武器。
而瑞星科技公司在這個基礎上也是不斷地在其他關鍵係統上進行研發，尤其是在雙工件台係統上進步非常快，這個也是得益於華興科技集團公司自己本身在超精密數控機床技術上進展非常快，不僅做出了滿足90納米光刻需要的工件台，針對28至65納米光刻配套的雙工件台也也是搞了出來，現在連28納米到10納米光刻機配套的雙工件台也是研製出來，並且進行了大量的測試驗證。
經過這麽幾輪產品的技術迭代，瑞星科技公司公司的光刻機其實在05年到07年間推出的產品整體性能就全麵上來了。
尤其是這幾年華興科技集團公司的眾多的技術成果開始湧現，再次將瑞星科技公司的產品技術推到了一個更高的高度。
瑞星科技公司公司現在光刻機產品線也是十分豐富，低端的產品主要還是以i線光刻光源為主，用來加工非關鍵性和比較大的電路結構，也能為45納米量產提供精確的套刻，主要用來加工存儲芯片、圖像傳感器、微機械芯片等大量芯片。
中高端光刻機產品主要是以氟化氪和氟化氬光源設備為主，這些設備主要是用來用來製造最小和中等尺寸的芯片電路結構，這種更短的波長能刻印40以下的納米電路結構。
一般而言，芯片的掩模層數最多達30或40層，因此中晶微在內的這些芯片製造商生產芯片時，通常會同時用到這三種設備。
氟化氪和氟化氬光源是瑞星科技公司向科學院光電研究院進行訂購的，雙方之間的合作很早就開始了，到現在科學院光電研究院已經能夠批量生產高性能的這兩種光源。 本章尚未完結,請點擊下一頁繼續閱讀---->>>