高原目光掃過碩大的物鏡時候，嘴角輕輕揚起一抹弧度，信心滿滿。
這套物鏡來自係統那大豬蹄子的饋贈，絕不是把三十多片打磨好的玻璃拚接起來那麽簡單，除了精度，它還有著強大的功率補償機製，容錯機製。
也就是說，激光通過物鏡後，功率可以得到一定程度提升，精度方麵，則可以做到無限接近完美的程度。
總之就是很牛逼很強大的意思，開了外掛的物鏡，效果杠杠的。
物鏡下麵，就是測量台和曝光台了，老式光刻機需要先測量，再曝光，而這種雙工作台係統，則可以實現一片矽片曝光同時，對另一片矽片進行測量和校準，工作效率提高一倍以上。
目前世界上，隻有荷蘭asml掌握雙工作台技術，長春這個機台如果量產的話，將是世界第二名。
整套機台最底部，是內部封閉框架和減振器，它們負責將工作台與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動幹擾，並維持恒定的溫度和壓力。
這一點極其重要，畢竟是製造高精密芯片，哪怕最微小的震動，一粒塵埃，或者空氣溫度和濕度的差別，都有可能導致矽片曝光失敗，或者前後兩批芯片的性能不一致。
一台完整的光刻機，大體就是這樣了。
聽上去簡單，其實卻是人類曆史上最複雜最精密的機台，沒有之一。
放眼全球，能做到紫外的，隻有asml，佳能，尼康三家，而能做到極紫外的，則隻有荷蘭asml，其餘所有競爭對手，全部慘遭淘汰，消失在曆史的長河中。
“開始！”
長春光機所的所長叫杜維明，隨著他一聲令下，全封閉絕塵實驗室裏，光刻機開始運行，大概也就十幾秒鍾過後，一片十二寸矽晶圓就被送下了機台。
其實，光刻機工作速度是很快的，每小時出片兩百張以上，完全不存在任何問題。
製約產能的主要是沉積設備，這類，其次是刻蝕設備包括這幾種機台，另外熱處理設備工作效率也十分感人。
一條月產能一萬片十二寸晶圓的fab製造線，光刻機或許隻有四五台，但刻蝕機，卻起碼要有六十台起步，如果想要追求高效率，甚至要堆一百台以上的刻蝕機。
目前，中微半導體的介質刻蝕技術，矽通孔刻蝕技術，位列全球前三，全球最牛的半導體代工廠台積電，生產線上就有成百上千台來自中微的刻蝕機，算是國產半導體行業裏比較爭氣的存在。
“成了！”
“一次出片成功，比我預想的還要順利！”
“不愧是昆侖集團啊，臨時加進來的光學係統，竟然和舊機台配合的這麽好！”
實驗室裏，穿著全套無塵服的工程師，取下十二寸矽晶圓，仔細看，會發現上麵出現了密密麻麻，無比繁雜的線條，燈光下亮晶晶的，甚是喜人。 本章已閱讀完畢(請點擊下一章繼續閱讀!)