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第924章 光刻機大突破(1/3)

作者:吃一口布丁字數:6808更新時間:2022-04-22 12:49:37

    “今天,我們正式向大家宣布,困擾了業界十多年時間的光刻機之壁,正式被我們AMSL公司破除了。從現在開始,70nm的製程就不再將是光刻機的極限,我們即將進入個位數的光刻機新時代!”此時此刻,麵對著台下數以百計的記者,  AMSL公司的負責人,用無比激動的聲音說道。

    2005年7月1號,這一天對於AMSL公司來說,絕對是最值得曆史銘記的一天,因為在這一天,AMSL正式召開了新聞發布會,向全球發布了自家公司生產的新品,也是全新的XT係列的第一台產品XT:1700i。

    在舞台上上麵,這位負責人激情澎湃的向查一下所有觀眾說明這台設備的數據,  而記者們也絲毫不吝嗇自己的膠卷,紛紛記錄下這令人激動的曆史一刻。

    不過台下比記者更多的其實是各家科技企業的代表們,他們的表情或激動或深沉或有些玩味,不過他們都明白,恐怕整個光刻機市場要就此改寫了。

    之前說過,從90年代中期開始,光刻機的發展就基本上陷入了停滯狀態。因為光源技術的限製,導致人類始終無法生產70納米製成以下的光刻機,也就無法製作相應的芯片。

    芯片之所以擁有恐怖的運算能力,其實就是先在單晶矽上麵裹一圈絕緣層,然後再用極細的光線燒掉覆蓋下的絕緣層。

    就好像把光線變成了筆,直接在單晶矽上麵畫下了一個又一個的半導體,最終形成了一枚擁有恐怖運算能力的計算機芯片。

    在最初的時候,  人類畫的線是用手畫的,  細度是毫米級別的,所以一個單晶矽芯片上麵隻能畫幾個半導體。

    後來變成了經過了精度加工的金屬模具來壓,  但這樣線的細度也不過是0.1毫米級別的,  頂多隻能夠畫幾百上千個半導體而已。

    直到有人發現了,可以利用光線在單晶矽上麵刻畫,於是第1台能夠光刻機誕生了,但隻能夠刻畫0.01毫米,也就是10微米左右的線條,在一片單晶矽上麵也就是上萬個半導體而已。

    不過在人類不斷的突破下,不斷的更換光源和鏡頭,將光線也變得越來越細,最後也就成了現在的70nm級別製程的光刻機了。能夠在一片單晶矽上麵刻畫上千萬的半導體。

    但這也頂天了,到90年代中期,人類就發現不管是鏡頭還是光源,人類都已經突破到極致了。除非能夠弄到比激光和紫外線還要細的光源,或者幹脆換掉光,用另外一種方式來刻畫,否則這就是一個無法突破的死穴。

    但10多年的時間,沒有任何一家企業能夠做到這一點,而光刻機的發展限製,也就導致了芯片製作精度被限製住了,  所以這10多年的時間裏麵,計算機芯片本身的硬件技術是沒有什麽發展的。

    但相應的軟件技術,  也就是芯片架構發展很快,  好歹讓計算機芯片沒有出現那種無法迭代的狀況,可這終究無法改變硬件上的限製,從03年左右開始,計算機芯片的發展基本上就陷入了極為緩慢的狀態。

    就拿英特爾來說,雖然他們每年都會發布最新款的高端計算機芯片,但每年的新款比去年提升的性能差不多隻在10%左右,和之前每年100%的性能提升形成了天壤之別。 本章尚未完結,請點擊下一頁繼續閱讀---->>>

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