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第226章 含矽光阻與高考!(1/3)

作者:紫蘇葉子蘇字數:6144更新時間:2019-10-18 08:40:47

    信息技術部的銀河『操』作係統已經到了最後階段,內核都已經完成,預計這個月末就能開啟用戶測試,不需要鍾子星『操』心。

    

    所以,他迫不及待的就離開了信息部和江浩然轉向元素演變部。

    

    中子戰星。

    

    幾十個化學實驗室裏分布著上千人,大家聯合實驗,都領了各自的任務,投入最擅長的行列。

    

    有的研究光致抗蝕劑、電鍍化學品、封裝材料,部分人攻克高純試劑、特種氣體、溶劑、清洗前摻雜劑、焊劑掩模、酸及腐蝕劑、電子專用膠黏劑。

    

    這些電子化學品的人才國內非常多,但受限於環境被大量的埋沒。

    

    此時,他們都被中子星科技的超級人才庫收集,一個個發了offer邀請過來。

    

    業內頂級的條件,最好的環境,不計代價的投入資金,加上有鍾子星在一旁指導,化學實驗室三天兩頭就有突破的好消息傳來。

    

    但是,距離真正能夠上台的高級成品,還有很長一段路要走。

    

    電子化學品,大部分學過化學的人都有接觸過,甚至在老師的領隊下親自參與過這些材料的合成。

    

    比方說光刻膠,化學選修課——有機化學基礎上,就有非常詳細完整的合成路線,並且這種路線完全正確,老師還會給學生發布任務,讓大家聯合動手。

    

    可完整歸完整,大家都能按照步驟一點點的合成,想要登上舞台,讓半導體巨頭使用你的光刻膠這是不可能的。

    

    電子化學最高壁壘不是一句空話。

    

    隨著光刻工藝的升級,對光刻膠的要求也越來越高。

    

    為了避免光刻膠線條倒塌,線寬越小的光刻工藝,如目前的32n,28n、22n光刻,對光刻膠的要求高的離譜,所需厚度越來越薄。

    

    22n的光刻技術製程,光刻膠的厚度要求達到了是100n左右。

    

    太厚曝光不足,太薄又無法有效的形成光阻,不能阻擋等離子體對襯底的刻蝕,非常的麻煩,必須要嚴格按照標準來鍍膜。

    

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