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“當前，業界EUV主要采取的辦法，是將二氧化碳激光照射在錫等靶材上，激發出13.5nm的光子，作為光刻機光源。”
辛啟天說著，臉上一副不以為然的樣子。
身為開掛大佬，時間長了，自然要有這樣的驕傲情緒。
盡管他自己在這些領域中，並沒有任何新技術新知識點的研發，僅僅是已經學習熟知當前體係。
但是，依靠強大的開掛後的能力，讓辛啟天非常敏銳的察覺，其實現有的光刻機技術，非常簡陋。
光刻是集成電路最重要的加工工藝，就好比傳統製造業車間中車床的作用。
在整個芯片製造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
光刻也是製造芯片的最關鍵技術，占據芯片製造成本的35%以上。
在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關係到大型計算機的運作等高科技領域。
而現如今的光刻機，其實仍然處於最原始的量變積累。
運行時，依靠龐大的電力吞吐，吸取足夠龐大的能量，來讓機器運作！
大力出奇跡嘛，就像是前幾個世紀中，軍工產品裏，人們全都盯著重大火炮去研究！
談到了詳細的技術信息，在場眾人，有不少並不清楚。
於是乎，都沒有再發言，紛紛一臉小學生認真臉。
“光刻機，有點類似於照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻是刻電路圖和其他電子元件。”
“把芯片製作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光，通過具有圖形的光罩，對塗有光刻膠的薄片曝光。”
“光刻膠見光後會發生性質變化，從而使光罩上得圖形複印到薄片上，薄片就有了電子線路圖的作用。”
“光刻實時上，也不過六七十年發展曆史。”
“47年，貝爾實驗室發明第一隻點接觸晶體管。59年，仙童半導體研製世界第一個適用單結構矽晶片。”
“60年代，仙OSIC製造工藝，並且建立了世界上第一台2英寸集成電路生產線。GCA公司開發出光學圖形發生器和分布重複精縮機。”
“70年代，GCA開發出第一台分布重複投影曝光機，集成電路圖形線寬從1.5μm縮小到0.5μm節點。”
“80年代，SVGL公司開發出第一代步進掃描投影曝光機，集成電路圖形線寬從0.5μm縮小到0.35μm節點。”
“90年代中後期，光學光刻分辨率到達70nm的極限。”
“新世紀以來，業內在已經不得不動手研究，包括極紫外線光刻技術，電子束光刻技術，X射線光刻技術，納米壓印技術等。”
“現有的光刻機構造，一般分為，照明係統、Stage係統、鏡頭組、搬送係統、Alig係統。”
“新的各種光刻技術研究中。普遍的把軟X射線投影光刻稱作極紫外投影光刻。”
“當前，對極紫外投影光刻EUV技術的研究最為深入，也取得了突破性的進展，使極紫外投影光刻技術最有希望被普遍使用到以後的集成電路生產當中。” 本章尚未完結,請點擊下一頁繼續閱讀---->>>