“是距實用化最近的一種深亞微米的光刻技術。”
“業內，普遍有一種認知，如果不早點推出極紫外光刻技術，來對當前的芯片製造方法做出全麵的改進，將使整個芯片工業處在岌岌可危的地步。”
“所以，其實新時代的節點，變革點，已經能夠清晰的預見。”
“極端紫外光刻技術所使用的光刻機的對準套刻精度要達到10nm，其研發和製造原理實際上和傳統的光學光刻在原理上十分相似。”
“對光刻機的研究重點，是要求定位要極其快速精密，以及逐場調平調焦技術。因為光刻機在工作時拚接圖形，和步進式掃描曝光的次數很多。不僅如此，入射對準光波信號的采集，以及處理問題還需要解決。”
“EUV技術的進展還是比較緩慢的，投資巨大。當前，其實沒有幾家廠商，能夠將這項技術應用於生產中。唯一的ASML公司，做出來的東西，也僅僅算是勉強能用。”
“各家廠商都清楚，半導體工藝向往下刻，使用EUV技術是必須的。波長越短，頻率越高，光的能量正比於頻率，反比於波長。”
“但是因為頻率過高，傳統的光溶膠直接就被打穿了。現在，半導體工藝的發展已經被許多物理學科從各個方麵製約了。”
“現在的問題的是，第一，EUV光刻機造價太高，好幾千萬優元。”
“第二，沒有真正合適的光源。”
“第三，沒有合適的掩模。第四，未研發出合適的光刻膠！”
“所以，我是打算，咱們可以在光源上，琢磨琢磨。”
說道這裏，辛啟天頗有些意猶未盡舔了下嘴角，眼神放光的說道：“其實如果不考慮整體行業發展，我個人，更想去研究電子束光刻。”
“用電子源發出電子束，經過掩膜和電子透鏡，將圖案投射到矽片上，從而形成電子線路！”
“但是，電子束高精度掃描成像曝光效率低。在抗蝕劑和基片中的散射和背散射現象，造成的鄰近效應。以及其他很多問題。”
“整個行業，目光都不聚集在這裏。”
“領先一步是天才，領先十步就是瘋子。”
“不過，我對這東西，非常感興趣。如果能做的好，可以應用於量子元器件等等生產。甚至，還可以搞粒子束武器。”
停頓了片刻，最終，辛啟天還是沒有把內心深處的想法說出來。
那就是，電子束如果技術進一步成熟，完備到最基礎的粒子階段。對於他搞出來的常溫超導體生產製造，應該是有一定幫助。
或許可以擺脫巨大能耗，來保持超導體狀態的機器桎梏。
當然，僅僅是有可能。
在學習這些理論當中，辛啟天的一點發散性思維罷了。他並沒有完全深入去研究。
一直以來，辛啟天都不會很深入的脫離現實，去研究高深的理論知識。
相比於科學家來說，辛啟天更像是一個工程師！他最童真的願望，就是製造出各種幻想當中的機器。而不是單純在理論中，尋找未來的理論。 本章尚未完結,請點擊下一頁繼續閱讀---->>>