所以除了華興半導體材料公司之外，國內也是出現了十多家能夠提供可靠國產化半導體材料的公司，半導體材料的國產化程度已經達到了百分之七十多，這些國內的半導體材料公司都是活得比較滋潤。
不過在光刻掩膜光罩這個細分領域卻是因為市場場集中度高，寡頭壟斷嚴重，豐創集團、霓虹國的DPN和社Toppan三家占據80%以上的市場份額，不過這個市場規模也不大，現階段來說隻有二十多億美金的樣子，所以半導體材料公司在這方麵就沒有發力了，而是主要跟著幾家公司都是有合作。
楊傑也從來沒有說自己要把半導體材料整個市場給吞下來的想法，這些公司在這些細分領域持續研發了這麽多年了，自然是有其過人之處。
而且華興集團公司現在已經掌握了半導體產業最核心的技術，自然也是有底氣進行合作的。
而且這些公司也是十分樂意跟華興集團公司進行合作，為華興集團公司開發各種高階的光刻掩膜光罩。
現在國內成了全世界最大的芯片生產基地，這幾家光罩廠自然對兔子國國內的半導體市場十分重視，豐創集團公司還在潭州市這邊建設了最高等級的光罩廠，專門為中晶微、華越電子公司、華晶集團公司、天馬科技公司等公司提供高端的光罩。
華興集團公司現在正在研發極紫外光光刻機，自然也是跟豐創集團公司有過接觸，希望他們能夠研發出極紫外光光刻掩膜的光罩。
極紫外光光刻機光刻的時候使用鏡麵反射光而不是用透鏡折射光，所以采用的光掩膜版也需要改成反射型，改用覆蓋在基體上的矽和鉬層來製作，同時因為極紫外光光刻機因為製程工藝極高，對光掩膜版的準確度、精密度、複雜度要求比以往更高。
當前製作掩膜版普遍使用的可變形狀電子束設備，其寫入時間成為最大的挑戰，解決方案之一是采用多束電子束設備，這就需要這些生產製造電子束設備的公司開發相關多束電子束產品。
也是因為極紫外光光源破壞性太大，就算是豐創集團公司能夠提供光刻掩膜，但是華興集團公司也必須要研發出光掩膜的保護層薄膜，提供阻隔外界汙染的實體屏障，可以防止微塵或揮發氣體汙染光掩膜表麵，減少光掩膜使用時的清潔和檢驗。
而且這些薄膜的對光源的透射率太差的話，會大大地影響到光刻機的產量，如果光刻機的每個小時的晶圓吞吐量過低的話也是楊傑不能忍受的。
為了達到這些設計目標，華興集團公司還有大量的研發要去做，沒有個五六年的功夫這些技術是無法成熟起來的。 本章已閱讀完畢(請點擊下一章繼續閱讀!)